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什么是掩膜版？掩膜版就是微電子制造過程中通過圖形轉移工具或母版，承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。掩膜版又稱光罩，光掩膜、光刻掩膜版、掩膜版等，掩膜版廣泛應用于電子產品、家電、汽車等行業(yè)領域，其中主要的客戶是半導體廠商英特爾、三星、臺積電以及京東方、華星光電等知名企業(yè)。

掩膜版分基板和遮光膜兩部分，卓力達作為蝕刻工藝的廠家之一，成功實踐客戶各種掩膜版蝕刻需求，那么掩膜版生產流程是怎么樣的呢？

1．客戶確定圖形后，通過對專業(yè)設計軟件進行二次編輯和處理。

2．依據版圖設計數據分層。運算，根據工藝需求對相應的參數進行確定和格式轉化。

3．掩膜版的制造采用的是正性光刻膠，通過光刻機中的激光作用需要曝光區(qū)域的光刻內部發(fā)生交聯反應。

4．通過曝光后在顯影液的作用下未曝光區(qū)域進行保留并保護膜層。

5．保護膜層的部分會保留圖形的樣式，再通過蝕刻液進行腐蝕溶解成型。

6．溶解成型后再通過脫模工序進行脫模液除去多余的光刻膠。

7．利用清水洗凈掩膜版兩面污染物。

8．完成以上步驟后，再進行尺寸測量得到準確的參數值。

9．接下來就是檢測掩膜版的產品是否滿足客戶定制需求，對圖形、排名、傷痕、圖形邊緣等全面檢測和確認良品。

10．對良品進行包裝，封箱貼好各種參數值，批次，數量等，最終進行發(fā)貨。